http://uv-curing-ray.com/uk/tags/exposure/ Recent content in Exposure on UV Curing Ray Hugo uk Mon, 29 Jun 2026 23:57:55 +0800 http://uv-curing-ray.com/uk/posts/replacement-gallium-lamp-for-exposure/ Mon, 29 Jun 2026 23:57:55 +0800 http://uv-curing-ray.com/uk/posts/replacement-gallium-lamp-for-exposure/ <p><img src="http://uv-curing-ray.com/images/b717d9f0742111373c1b4fa943a6ce46.png" alt="Замінна лампа з галієм для експозиції"></p> <p>На стенді для експозиції нерівномірна потужність УФ-випромінювання є причиною погіршення якості зображення. Слабкий пік на довжині хвилі 365 нм, зміни спектрального профілю з часом чи втрата дихроїчної ефективності відбивача перетворюють процес створення зображення на процедуру, результат якої є непередбачуваним. Коли лампа не функціонує належним чином, у результаті отримуються розмиті краї зображення, недостатньо експонована емульсія та марновані матеріали – ще до початку процесу висихання.</p> <p>Насправді важливою є енергія, яка передається при правильній довжині хвилі. Наша замінна галієва лампа для експозиції має стабільну потужність випромінювання 365 нм, що відповідає можливостям поглинання світла фотоініціаторами в фотополімерних пластинах та емульсіях для друку. Максимальна інтенсивність випромінювання залишається стабільною на всій довжині дуги завдяки високоякісній кварцовій оболонці та ретельно контрольованому тиску повітря. Таким чином, доза випромінювання на квадратний сантиметр залишається постійною під час кожної експозиції. Відбивач має дихроїчне покриття, налаштоване на довжину хвилі 365 нм, що дозволяє енергії повертатися на поверхню матеріалу, а не відводитися у вигляді тепла до корпусу лампи. Це забезпечує стабільну роботу лампи протягом тисяч годин з мінімальними змінами спектру та передбачуваною тривалістю служби.</p>